化学气相沉积法
- 网络CVD; Chemical Vapor Deposition; Chemical Vapor Deposition, CVD
化学气相沉积法化学气相沉积法
CVD
化学气相沉积法（CVD）利用挥发性金属化合物的蒸气通过化学反应生成所需化合物，该法制备的纳米TiO2粒度细，化学活性 …
Chemical Vapor Deposition
一般化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition）的原料气体使用率仅1％，因成本过高难以应用於产业。而此次开发的技术 …
Chemical Vapor Deposition, CVD
化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition ,CVD)首次在规模化制备石墨烯的问题方面有了新的突破。CVD 法是指反应物质在 …
PECVD
电 浆辅助化学气相沉积法(PECVD)氮化矽无机膜的沈 积。其中氮化矽薄膜之最佳沉积条件为:SiH 4 /NH 3 流量 比130/20 sccm …
Chemical Vapour Deposition
化学气相沉积法(Chemical Vapour Deposition)产生的CVD钻石薄膜，其热发光的辉光曲线及动力学的特性，可运用於高能量光 …
Chemical Vapor Deposition method
...O3作为催化剂，B(OCH3)3为反应源气体，采用化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition method)合成含硼奈米碳管(B-do…
PCVD
镀法或电浆化学气相沉积法(PCVD)形成SiO2或Ta2O5之表面薄膜覆盖层 利用溅镀法将闸电极用或扫描配.. 全部>> 骊威也不错 …
CVD, chemical vapor deposition
化学气相沉积法（CVD, chemical vapor deposition）形成的类钻石 （diamond like）薄膜，都含有微量的氢原子，其 C/H 比多 …
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