LPCVD
- 网络低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)；低压化学气相沉积系统；低压化学气相淀积
LPCVDLPCVD
低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)
在低压化学气相沉积(LPCVD)室内，随着温度、压力和SiH4气体流速的增加，pSiGe/pSiGeC的沉积速率从10 nm/min增加到60n…
低压化学气相沉积系统
这种反应通常使用低压化学气相沉积系统(LPCVD)，使用单纯的硅烷或用70-80％的氮硅烷作为原料。 在温度在600°C至650°C …
低压化学气相淀积
现了低压化学气相淀积(LPCVD).低压化学气相淀积是指系统工作在较低的压强下的一种化学气相淀积的方法.LPCVD技术不仅用 …
低压化学气相沈积
目前已有人使用不同的薄膜沈积方法，如低压化学气相沈积(LPCVD)，电浆辅助化学气相沈积法(PECVD)，光分解化学气相沈 …
低压化学气相沉积法
然后利用低压化学气相沉积法(LPCVD)成长一层掺杂磷之复晶矽膜（厚度为300 nm），称之为浮置闸极(Floating gate)。再经过 …
低压化学汽相淀积
电器电子词汇英语翻译(H-N) ... lowest resonance level 最低共振能级 lpcvd 低压化学汽相淀积 lpe 液相外延 ...
低压化学汽相沉积
采用低压化学汽相沉积(LPCVD)方法,依靠纯SiH4气体分子的表面热分解反应,在由Si-O-Si键和由Si-OH键终端的两种SiO2表面上…
1